高(gāo)純鋁濺射靶材行業的(de)發展情況。随着電子(zǐ)新材料行業的(de)快速發展,以高(gāo)純鋁為(wèi)基礎的(de)電子(zǐ)新材料産品(包括靶材)需求将保持高(gāo)速增長(cháng)。十一(yī)五期間，我國“國家高(gāo)技術研究發展計劃(863計劃)新材料技術領域“大尺寸超高(gāo)純鋁靶材的(de)制造技術”重點項目申請指南”要求達到的(de)目标是：通過超高(gāo)純鋁及鋁合金靶材制備加工過程中的(de)關鍵技術攻關，全面掌握應用于大規模集成電路制造和(hé)TFT-LCD制造的(de)大尺寸超高(gāo)純鋁及鋁合金靶材的(de)制備加工技術;制備出滿足大規模集成電路制造用和(hé)TFT-LCD使用要求的(de)超高(gāo)純鋁及鋁合金靶材産品;為(wèi)在我國形成一(yī)個從超高(gāo)純鋁精煉提純到靶材加工的(de)完整産業鏈提供關鍵技術支撐。國內(nèi)鋁電解電容器需求将以年(nián)均13-15%的(de)速度增長(cháng)。随着我國存儲盤及半導體制品國産化，高(gāo)純鋁靶材的(de)需求量将會進一(yī)步增加，市場前景廣闊。
據統計，國內(nèi)每年(nián)高(gāo)純鋁的(de)缺口在十幾萬噸左右。到2008年(nián)末可(kě)生産高(gāo)純鋁的(de)企業可(kě)有8個，總生産能力約5.7萬噸，到2012年(nián)可(kě)生産高(gāo)純鋁的(de)企業可(kě)增至11個，總生産能力有可(kě)能達到12.5萬噸。相信随着國內(nèi)生産工藝的(de)發展，産品質量的(de)提高(gāo)，高(gāo)純鋁将是鋁工業發展的(de)新方向。從高(gāo)純鋁靶材的(de)上遊供應情況來看，我國高(gāo)純鋁産量并不高(gāo)，也不能滿足國家高(gāo)純鋁靶材生産所需。其餘所需隻能來源于進口。目前我國高(gāo)純鋁年(nián)産量約為(wèi)5萬噸，産品供不應求。
