濺射靶材主要應用于電子(zǐ)及信息産業,如(rú)集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子(zǐ)控制 器件等;亦可(kě)應用于玻璃鍍膜領域;還可(kě)以應用于耐磨材料、高(gāo)溫耐蝕、高(gāo)檔裝飾用品等行業。
信息存儲産業：随着IT 産業的(de)不斷發展,世界對記錄介質的(de)需 求量越來越大,記錄介質用靶材研究與生産成為(wèi)一(yī)大熱點。在信息存儲産業中,使用濺射靶材制備的(de) 相關薄膜産品有硬盤、磁頭、光盤等。制造這些數據 存儲産品,需要使用具有特殊結晶性與特殊成分的(de)高(gāo)品質靶材,常用的(de)有钴、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀 有金屬、介質材料等。
集成電路産業：集成電路用靶材在全球靶材市場占較大份額, 其濺射産品主要包括電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等。其中薄膜電阻器是薄膜混合集成電路中用量最多的(de)元 件,而電阻薄膜用靶材中Ni - Cr 合金的(de)用量很大。
