磁控濺射靶材的(de)運作過程很多人不不太清楚，對磁控濺射靶材的(de)工作內(nèi)容也不了解，下面就為(wèi)大家簡單的(de)介紹一(yī)下。磁控濺射的(de)基本原理(lǐ)是利用 Ar一(yī)02混合氣體中的(de)等離(lí)子(zǐ)體在電場和(hé)交變磁場的(de)作用下，被加速的(de)高(gāo)能粒子(zǐ)轟擊靶材表面，能量交換後，靶材表面的(de)原子(zǐ)脫離(lí)原晶格而逸出，轉移到基體表面而成膜。
磁控濺射的(de)特點是成膜速率高(gāo)，基片溫度低(dī)，膜的(de)粘附性好，可(kě)實現大面積鍍膜。該技術可(kě)以分為(wèi)直流磁控濺射法和(hé)射頻磁控濺射法。
磁控濺射是70年(nián)代迅速發展起來的(de)一(yī)種“高(gāo)速低(dī)溫濺射技術”。磁控濺射是在陰極靶的(de)表面上方形成一(yī)個正交電磁場。當濺射産生的(de)二次電子(zǐ)在陰極位降區內(nèi)被加速為(wèi)高(gāo)能電子(zǐ)後，并不直接飛(fēi)向陽極，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的(de)近似擺線的(de)運動。高(gāo)能電子(zǐ)不斷與氣體分子(zǐ)發生碰撞并向後者轉移能量，使之電離(lí)而本身變成低(dī)能電子(zǐ)。這些低(dī)能電子(zǐ)最終沿磁力線漂移到陰極附近的(de)輔助陽極而被吸收，避免高(gāo)能電子(zǐ)對極闆的(de)強烈轟擊，消除了二極濺射中極闆被轟擊加熱和(hé)被電子(zǐ)輻照引起損傷的(de)根源，體現磁控濺射中極闆“低(dī)溫”的(de)特點。由于外加磁場的(de)存在，電子(zǐ)的(de)複雜運動增加了電離(lí)率，實現了高(gāo)速濺射。磁控濺射的(de)技術特點是要在陰極靶面附件産生與電場方向垂直的(de)磁場，一(yī)般采用永久磁鐵實現。
