熱烈慶祝北京華镥拓日靶材科技有限公司成立十周年(nián)，為(wèi)感謝新老員工對公司的(de)辛勤付出，公司于6月18、19日兩天組織員工去(qù)黃花城水長(cháng)城遊玩并在長(cháng)城腳下農家院聚餐。普瑞新材全體員工深切認識到生産是

2016中國（北京）國際靶材産品及鍍膜工業展覽會時間：2016年(nián)5月9-11日地(dì)點：北京·國家會議中心同期活動：2016靶材應用研讨會2016真空鍍膜技術交流會■組織單位主辦單位：中國

ITO材料是一(yī)種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為(wèi)：平闆顯示器(FPD)産業，如(rú)液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL

靶材的(de)市場廣闊，應用範圍大，未來發展較大，為(wèi)了幫助大家更多的(de)了解靶材的(de)性能，下面我們就為(wèi)大家簡單的(de)介紹一(yī)下靶材的(de)主要性能要求，希望對大家有所幫助。　　純度：純度是靶材的(de)主要性能指标之一(yī)，因為(wèi)靶材的(de)純度對薄膜的(de)性能影

濺射靶材磁控濺射原理(lǐ)：　　在被濺射的(de)靶極(陰極)與陽極之間加一(yī)個正交磁場和(hé)電場，在高(gāo)真空室中充入所需要的(de)惰性氣體(通常為(wèi)Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高(gāo)斯的(de)磁場，同高(gāo)壓電場組成正交電磁場。　　在電場的(de)作用下，Ar氣電離(lí)成正

濺射靶材主要應用于電子(zǐ)及信息産業,如(rú)集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子(zǐ)控制器件等;亦可(kě)應用于玻璃鍍膜領域;還可(kě)以應用于耐磨材料、高(gāo)溫耐蝕、高(gāo)檔裝飾用品等行業。　　信息存儲産業：随着IT産業的(de)不斷發展,世界對記錄介質的(de)需求

如(rú)果靶材是磁性材料，磁力線被靶材屏蔽，磁力線難以穿透靶材在靶材表面上方形成磁場，磁控的(de)作用将大大降低(dī)。因此，濺射磁性材料時，一(yī)方面要求磁控靶的(de)磁場要強一(yī)些，另一(yī)方面靶材也要制備的(de)薄一(yī)些，以便磁力線能穿過靶材，在靶面

靶材的(de)應用範圍廣闊，市場發展空間巨大，脫钛劑結合PVD鍍膜的(de)特點而生産的(de)一(yī)種高(gāo)效環保無毒退膜藥水。　脫钛劑由于具有無毒﹑環保的(de)特點，所以絕不傷害電鍍保護漆與基體，并迅速剝離(lí)IP塗層，起到了良好的(de)分色效果。它主要是針對離(lí)子(zǐ)裝飾

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理(lǐ)和(hé)應用對象。但有一(yī)共同點：利用磁場與電子(zǐ)交互作用，使電子(zǐ)在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子(zǐ)撞擊氩氣産生離(lí)子(zǐ)的(de)概率。所産生的(de)離(lí)子(zǐ)在電場作用下撞向靶面從而濺射出濺射靶材。在近

目前全球各主要靶材制造商的(de)總部，大多設立在美國、德國和(hé)日本。就美國而言.約有50家中小規模的(de)靶材制造商及經銷商，其中最大的(de)公司員工大約有幾百人。不過為(wèi)了能更接近使用者，以便提供更完善的(de)售後服務，全球主要靶材制造商

真空濺射靶材的(de)信息介紹，幫助大家更好的(de)了解靶材行業的(de)知識。　　靶材技術指标：純度：3-4N主要成分：ZnO：Al2O3=97:3[可(kě)根據用戶要求調整Al2O3摻雜比(0-4)wt%]相對密度：d≥98%理(lǐ)論密度：ρ=5

靶材的(de)作用很多，而且市場發展空間較大，它在很多領域都有很好的(de)用途。新型的(de)濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵将電子(zǐ)成螺旋狀運動以加速靶材周圍的(de)氩氣離(lí)子(zǐ)化,造成靶與氩氣離(lí)子(zǐ)間的(de)撞擊機率增加,　　提高(gāo)濺鍍速率。一(yī)般金屬鍍膜大都

磁控濺射靶材的(de)運作過程很多人不不太清楚，對磁控濺射靶材的(de)工作內(nèi)容也不了解，下面就為(wèi)大家簡單的(de)介紹一(yī)下。磁控濺射的(de)基本原理(lǐ)是利用Ar一(yī)02混合氣體中的(de)等離(lí)子(zǐ)體在電場和(hé)交變磁場的(de)作用下，被加速的(de)高(gāo)能粒子(zǐ)轟擊靶材表面，能量交換後，靶材表面的(de)原子(zǐ)

國內(nèi)濺射靶材發展與應用20世紀90年(nián)代以來靶材已蓬勃發展成為(wèi)一(yī)個專業化産業，中國及亞太地(dì)區靶材的(de)需求占有世界70%以上的(de)市場份額。大量不同的(de)沉積技術用來沉積生長(cháng)各種薄膜，而靶材是制作薄膜的(de)關鍵，品質的(de)好壞對薄膜的(de)意義重大。

一(yī)、背靶材料無氧銅(OFC)–目前最常使用的(de)作背靶的(de)材料是無氧銅，因為(wèi)無氧銅具有良好的(de)導電性和(hé)導熱性，而且比較容易機械加工。如(rú)果保養适當，無氧銅背靶可(kě)以重複使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用條件比較特殊的(de)情況下，如(rú)

合金靶材的(de)濺射原理(lǐ)：對濺射類鍍膜，可(kě)以簡單理(lǐ)解為(wèi)利用電子(zǐ)或高(gāo)能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子(zǐ)團或離(lí)子(zǐ)形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經曆成膜過程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為(wèi)很多種，總體看，與蒸發鍍膜的(de)不同點在于濺射