靶材的(de)作用很多，而且市場發展空間較大，它在很多領域都有很好的(de)用途。新型的(de)濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵将電子(zǐ)成螺旋狀運動以加速靶材周圍的(de)氩氣離(lí)子(zǐ)化, 造成靶與氩氣離(lí)子(zǐ)間的(de)撞擊機率增加,
提高(gāo)濺鍍速率。一(yī)般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的(de)陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的(de)原理(lǐ)是在真空中利用輝光放電(glow discharge)将氩氣(Ar)離(lí)子(zǐ)撞擊靶材(target)表面，電漿中的(de)陽離(lí)子(zǐ)會加速沖向作為(wèi)被濺鍍材的(de)負電極表面，這個沖擊将使靶材的(de)物質飛(fēi)出而沉積在基闆上形成薄膜。
一(yī)般來說，利用濺鍍制程進行薄膜披覆有幾項特點：(1)金屬、合金或絕緣物均可(kě)做(zuò)成薄膜材料。(2)再适當的(de)設定條件下可(kě)将多元複雜的(de)靶材制作出同一(yī)組成的(de)薄膜。(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的(de)活性氣體，可(kě)以制作靶材物質與氣體分子(zǐ)的(de)混合物或化合物。(4)靶材輸入電流及濺射時間可(kě)以控制，容易得到高(gāo)精度的(de)膜厚。(5)較其它制程利于生産大面積的(de)均一(yī)薄膜。(6)濺射粒子(zǐ)幾不受重力影響，靶材與基闆位置可(kě)自(zì)由安排。
