磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理(lǐ)和(hé)應用對象。但有一(yī)共同點：利用磁場與電子(zǐ)交互作用，使電子(zǐ)在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子(zǐ)撞擊氩氣産生離(lí)子(zǐ)的(de)概率。所産生的(de)離(lí)子(zǐ)在電場作用下撞向靶面從而濺射出濺射靶材。在近幾十年(nián)的(de)發展中，大家逐漸采用永久磁鐵，很少用線圈磁鐵。
中頻濺射的(de)原理(lǐ)跟一(yī)般的(de)直流濺射是相同的(de),不同的(de)是直流濺射把筒體當陽極,而中頻濺射是成對的(de),筒體是否參加必須視(shì)整體設計而定,與整個系統濺射過程中,陽極陰極的(de)安排有關,參與的(de)比率周期有很多方法,不同的(de)方法可(kě)得到不相同的(de)濺射産額,得到不相同的(de)離(lí)子(zǐ)密度。
中頻濺射主要技術在于電源的(de)設計與應用,目前較成熟的(de)是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優缺點,首先應考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式适合哪種膜層,可(kě)以用電源特性來得到想要的(de)膜層效果。
中頻的(de)靶材用的(de)對靶,濺射靶材有的(de)用到三對.靶都是比較大，就中頻而言,現在用的(de)多的(de)都是鍍一(yī)些金屬的(de)工件.這樣的(de)真空爐一(yī)般都做(zuò)的(de)比較大,可(kě)以放下很多任務件,鍍出來的(de)膜層也更加的(de)緻密.
