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  • [公司新聞] 2017年(nián)上海半導體展

    北京普瑞新材于2017年(nián)3月14日參加了上海半導體展，在展會上與很多同行業公司達成了良好的(de)合作意向，我們将繼續努力為(wèi)客戶提供周到全面的(de)各種金屬材料服務。
    發布時間：2017-03-14   點擊次數：768

  • [行業新聞] 未來ITO靶材發展趨勢

    未來ITO靶材發展大緻有以下的(de)趨勢：　　1.降低(dī)電阻率。随着LCD愈來愈精細化發展的(de)趨向，以及它的(de)驅動程序不同，需要更小電阻率的(de)透明導電膜。　　2.高(gāo)密度化。靶材密度的(de)改善直接帶來的(de)益處主要表現在減少黑化和(hé)降低(dī)電阻率方面。靶材若為(wèi)低(dī)密度時，
    發布時間：2016-03-29   點擊次數：602

  • [技術中心] 靶材的(de)種類及應用領域介紹

    靶材就是高(gāo)速荷能粒子(zǐ)轟擊的(de)目标材料，用于高(gāo)能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(cháng)的(de)激光與不同的(de)靶材相互作用時，會産生不同的(de)殺傷破壞效應。例如(rú)：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜...鋁膜等。更換不同的(de)靶
    發布時間：2016-03-29   點擊次數：285

  • [行業新聞] 磁控濺射技術如(rú)何分類？

    可(kě)以分為(wèi)直流磁控濺射法和(hé)射頻磁控濺射法。　　直流濺射法要求靶材能夠将從離(lí)子(zǐ)轟擊過程中得到的(de)正電荷傳遞給與其緊密接觸的(de)陰極，從而該方法隻能濺射導體材料，不适于絕緣材料，因為(wèi)轟擊絕緣靶材時表面的(de)離(lí)子(zǐ)電荷無法中和(hé)，這将導緻靶面電位升高(gāo)
    發布時間：2016-03-29   點擊次數：452

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