靶材就是高(gāo)速荷能粒子(zǐ)轟擊的(de)目标材料，用于高(gāo)能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(cháng)的(de)激光與不同的(de)靶材相互作用時，會産生不同的(de)殺傷破壞效應 。例如(rú)：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜...鋁膜等。更換不同的(de)靶材(如(rú)鋁、銅、不鏽鋼、钛、鎳靶等)，即可(kě)得到不同的(de)膜系(如(rú)超硬、耐磨、防腐的(de)合金膜等)。
微電子(zǐ)領域：半導體産業對靶材的(de)品質要求是最苛刻的(de)，這就要求所制造的(de)靶材具有更好的(de)微觀結構，靶材的(de)結晶粒子(zǐ)直徑和(hé)均勻性已被認為(wèi)是影響薄膜沉 積率的(de)關鍵因素平面顯示器用靶材：
現在的(de)1TO靶材有兩種，一(yī) 種是采用納米狀态的(de)氧化铟和(hé)氧化錫粉混合後燒結，一(yī)種是采用铟錫合金靶材。存儲技術用靶材：在儲存技術方面，高(gāo)密度、大容量硬盤的(de)發展，需要人鼍的(de)巨磁阻薄膜材料，CoF ~Cu多層複合膜是 現在應朋(péng)展廣泛的(de)巨磁阻薄膜結構。
