未來ITO靶材發展大緻有以下的(de)趨勢：
1.降低(dī)電阻率。随着LCD愈來愈精細化發展的(de)趨向，以及它的(de)驅動程序不同，需要更小電阻率的(de)透明導電膜。
2.高(gāo)密度化。靶材密度的(de)改善直接帶來的(de)益處主要表現在減少黑化和(hé)降低(dī)電阻率方面。靶材若為(wèi)低(dī)密度時，有效濺射表面積會減少，濺射速度也會降低(dī)，靶材表面黑化趨勢加劇。高(gāo)密度靶的(de)表面變化少，可(kě)以得到低(dī)電阻膜。靶材密度與壽命也有關，高(gāo)密度的(de)靶材壽命較長(cháng)，意味着可(kě)降低(dī)靶材成本。
3.尺寸大型化。随着液晶模塊産品輕薄化和(hé)低(dī)價化趨勢的(de)不斷發展，相應的(de)ITO玻璃基闆也出現了明顯的(de)大型化的(de)趨勢，因此ITO靶材單片尺寸大型化不可(kě)避免。
4.靶材本體一(yī)體化。如(rú)前所述，靶材将朝大面積發展，以往技術能力不足時，必須使用多片靶材拼焊成大面積，但由于接合處會造成鍍膜質量下降，因此目前大多以一(yī)體成形為(wèi)主，以提升鍍膜質量與使用率。未來新世代LCD玻璃基闆尺寸的(de)加大，對靶材生産廠家是一(yī)項嚴苛的(de)挑戰。
5.使用高(gāo)效率化。靶材使用率的(de)提升，一(yī)直是設備商、使用者及靶材制造商共同努力的(de)方向。目前靶材利用率可(kě)達40%，随着液晶顯示器行業對材料成本要求的(de)提高(gāo)，提高(gāo)ITO靶材的(de)利用率也将是未來靶材研發的(de)方向之一(yī)。
