真空濺射靶材的(de)信息介紹，幫助大家更好的(de)了解靶材行業的(de)知識。
靶材技術指标：純 度：3-4 N 主要成分：ZnO：Al2O3= 97:3 [可(kě)根據用戶要求調整Al2O3摻雜比 (0-4) wt%] 相對密度：d≥ 98% 理(lǐ)論密度：ρ= 5.6 g•cm-3 實際密度：ρ≥ 5.5 g•cm-3 緻密性均一(yī)：從橫斷面看無白點或大顆粒 2.鍍膜性能：方塊電阻：膜厚900 nm左右時，方阻≤ 10Ω/□ 電 阻 率：ρ≤ 9×10-4 Ω•cm 可(kě)見光透過率：T≥ 80% 3.濺射功率密度：目前國內(nèi)鍍膜設備适用功率3-4 w•cm -2，在設備冷卻系統好的(de)情況下，最高(gāo)功率可(kě)達10 w•cm -2 4.可(kě)生産最大尺寸(mm)：最大模具規格：L×W=334 ×272，現有L×W×H=330×135×12，160×135×12,160×135×9三種規格，厚度可(kě)根據客戶要求生産。
